Синтетические плёнки

Исключительно важную роль в вакуум-процессе играет синтетическая плёнка. Наиболее широко применяется плёнка, представляющая собой сополимер этилена с винилацетатом.

К синтетической плёнке для вакуум-процесса предъявляются следующие требования:

– плёнка должна ложиться на модель плотно, точно по контуру без образования складок, морщин, пузырей и т.п.;

– растяжение плёнки в двух взаимно перпендикулярных направлениях желательно иметь одинаковым;

– пластическая деформация пленки должна быть максимальной при нагреве в интервале температур 60 – 160 °С;

– при контакте с расплавленным металлом не должно быть выделения токсичных веществ.

Эти требования предъявляются лишь к пленке, которая воспроизводит конфигурацию модели и в дальнейшем служит рабочей поверхностью формы. Пленка, оформляющая контрлад, может быть изготовлена из менее качественных материалов и может обладать меньшей эластичностью.

Пленки типа поливинилхлоридных, выделяющие при сгорании токсичные вещества: хлор, хлористый водород, – использовать запрещается. Не рекомендуется применять синтетические пленки на основе поливинилового спирта, так как они отличаются существенной нестабильностью свойств и склонны к поглощению влаги.

Отечественная промышленность выпускает синтетическую пленку севилен.

Наиболее оптимальная толщина пленки 70–100 мкм. Чем толще пленка, тем больше ее формуемостью. Однако это не означает, что с увеличением толщины пленки в два раза обязательно увеличивается глубина вытяжки. Более того, толстая пленка, несмотря на лучшую формуемость, вызовет увеличение количества выделяющихся при заливке газов, а также повышенный ее расход и стоимость. Исходя из этого, целесообразно использовать более тонкую пленку.

Еще по теме:

Карточный алфавитный каталог
Традиционный (карточный) алфавитный каталог (АК) в системе каталогов Центральной городской библиотеки муниципального учреждения культуры «Централизованная библиотечная система города Саратова» представлен двумя каталогами: служебным и чит ...

Деятельность миланской дизайнерской группы «Мемфис»
В 1980 гг. стиль «Хай-тек» развивался в работах дизайнеров группы «Мемфис». Группа была создана в 1981 г. по инициативе Э. Сотсосса. Эта группа выступила как активная художественная оппозиция функционализму в дизайне. Своё название групп ...

Кабульский музей
Также известен как Национальный музей Афганистана. Двухэтажное здание музея построено в 1922 году в 9 километрах к юго-западу от исторического центра Кабула, Афганистан. Основой коллекции музея стала кунсткамера, которая начала работать ...